幅度达50%,韩存储大厂将在国内大举扩产


机构测算每万片产能可带动百亿级半导体设备。今日重要性:✨✨

据韩国《首尔经济日报》报道,SK海力士将在中国的NAND闪存产能提高50%。

资料显示,SK海力士旗下NAND子公司Solidigm今年上半年已重新启动大连第二工厂的投资与建设工作。据报道,该公司计划最早于今年11月开始引进生产设备,并于明年上半年建立量产体系。新产线月投片产能预计约为5万片晶圆,叠加现有大连一厂每月10万片的产能,当地总产能将提升约50%。此次扩产将进一步强化SK海力士在企业级固态硬盘(eSSD)市场的供应能力,而过去一年间NAND价格已累计上涨近十倍。

除海力士外,三星与五大CSP签订5年期滚动长协,计划将60%至70%产能分配给长期供货协议;美光签署16份SCA长期协议对应约220亿美元现金存款,管理层称供需缺口"看不到尽头",中期内仅能满足50%至三分之二的客户需求。三大存储原厂同时扩产意味着设备端将迎来确定性增量——以NAND产线为例,每新增1万片月产能,对应的刻蚀、薄膜和检测设备投资额通常在10亿至15亿美元量级。

此外,从技术维度看,先进NAND产线正在向更高层数迭代,意味着每一片晶圆需要经历更多次沉积-刻蚀循环,高深宽比刻蚀、薄膜沉积和检测设备的单GW产能价值量将系统性抬升,同时晶圆键合架构的导入还将新增混合键合等先进封装设备需求。叠加中国本土存储厂商长鑫存储等也在推进产能建设,前道设备的全球需求将进入集中释放期。

公司方面,据上市公司互动平台、公告及券商研报表示,

中微公司:国内等离子体刻蚀设备龙头,其CCP刻蚀机在3D NAND高深宽比通道刻蚀领域已进入国内外多条存储产线。

兴福电子:海力士是公司第八大股东,公司主要产电子级硫酸、电子级双氧水及金属系列蚀刻液、硅系列蚀刻液、清洗剂等湿电子化学品已批量供应中芯国际、长鑫等相关客户。

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