【大涨解读】先进封装:东方算芯首发3D混合键合大算力芯片,华为韬定律V2推动封装从后道升级为核心性能环节,国产算力芯片迎来加速落地


东方算芯推出首颗DRAM-Logic晶圆级3D混合键合大算力芯片DF1000,访存带宽达6.4TB/s;华为韬定律V2推动先进封装从后道升级为芯片性能核心环节,国产算力芯片进入架构创新驱动高增长阶段。

一、行情

7月14日,半导体、先进封装、算力芯片等局部逆势走强。张江高科(炸)、力合科创一字开盘,气派科技一度逼近20%,天普股份涨停,华天科技、拓荆科技、微导纳米、清溢光电等集体大涨。

二、事件:东方算芯DF1000首发3D混合键合大算力芯片,从芯片到集群全栈布局

1)7月13日,东方算芯首颗大算力芯片DF1000发布,采用"软件定义+3D堆叠近存计算"技术路线,通过DRAM-Logic晶圆级混合键合3D垂直封装,将计算层与存储层垂直堆叠集成,互连间距压缩至亚微米级别,访存带宽达6.4TB/s。同步推出巅峯DF1000加速卡、擎元QY100服务器、拓域TY64超节点及慧算HS128智算集群。(界面新闻)

三、机构解读

1)本次驱动的核心增量在于,DF1000通过晶圆级3D混合键合实现了DRAM与Logic的垂直堆叠,将访存带宽提升至6.4TB/s,从根本上压缩了存算之间数据搬运的物理距离。这一架构创新与技术路径上的先行者华为韬定律一脉相承。广发证券指出,韬定律v2已将LogicFolding从理论推进到芯片折叠与AI系统重构,依赖高密度垂直互连、混合键合、TSV及2.5D/3D封装,推动先进封装从传统后道工序升级为决定性能、功耗、带宽和系统集成效率的核心环节。(广发证券)

2)先进封装是后摩尔时代延续芯片性能提升的关键路径,通过3D堆叠、混合键合、TSV等技术将多芯片在垂直方向集成,突破单芯片面积和功耗瓶颈。国盛证券表示,华为已对381款量产芯片完成韬定律可行性验证,预计到2031年基于该定律的高端芯片晶体管密度将达等效1.4纳米制程水平,麒麟2026率先验证逻辑折叠路径,晶体管密度预计2035年突破400MTr/mm²;昇腾AI芯片预计2030年左右引入逻辑折叠,此后3D折叠将成为实现代际增益的主要载体,硬件集成度到2035年将提高超过100倍。(国盛证券)

3)从产业传导看,先进封装的战略地位提升正在拉动封装测试、设备和材料全链条价值扩张。混合键合需要刻蚀、铜填充、精密对准、退火、表面处理和量测检测等前道级工艺支撑,制造与封装边界趋于模糊。招商证券数据显示,国产算力芯片已进入高速增长通道,海光信息、寒武纪2026年一季度营收同比分别增长68%和160%,显示出国产算力芯片整体非常良好的需求趋势;国内封测龙头长电科技一季度产能利用率超80%,2026年资本开支约100亿元主要用于先进封装扩产。(招商证券、广发证券)

4)产业链方面,上游以混合键合设备、刻蚀设备、量测设备和封装基板为核心环节,混合键合精度和良率是产业化的关键瓶颈,半导体设备厂商在TSV刻蚀、铜填充等环节持续突破。

中游以先进封装代工和测试服务为核心,2.5D/3D封装、晶圆级封装及系统级封装正在成为主流技术路径,头部封测企业资本开支大幅增长,产能向先进封装方向倾斜。

下游以AI算力芯片为核心应用场景,国产算力芯片厂商从追赶海外GPU架构转向以存算一体和先进封装为支点的差异化创新,麒麟移动SoC已率先完成逻辑折叠硅验证,AI芯片适配3D折叠架构的技术路线逐步清晰。(招商证券、广发证券、国盛证券)

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